MaskStudio

製品概要

レイアウト設計データを最新のマスク技術に対応した描画データに超高速かつ高品質に変換する「フラクチャリングシステム」です。

並列分散処理機構やジョブ管理機能により、OPC 処理などで大規模かつ複雑化した設計データの変換も効率的に行うことができます。並列分散処理では200 並列以上での運用実績もあり、今後、さらに肥大化していくデータサイズにも柔軟に対応することができます。また、微小図形の発生を抑制する優れた台形分割技術や豊富な図形演算機能により、各マスク描画装置に適したパターンデータを生成し、マスク描画時のランニングコストおよび TAT を削減することが可能です。

対応フォーマット

以下の入出力フォーマットに対応しています。

入力

フォーマット バージョン
GDSII Version 5/ 6/ 7
OASIS 1.0
OASIS.MASK 2.0
JEOL52 V1.0/ V1.1/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES(*1) RETICLE/ MODE5/JOB
Hitachi HL700/ HL800/ HL900/ HL950/ HL7000/ JOB
Toshiba/NuFlare Tech. VSB11/ VSB12/ JOB
PILOT (LAVIS)
USER USER-Format

(*1) MEBES ファイルを MEBES 以外のフォーマットに変換することはできません。

出力

フォーマット バージョン
GDSII Version 6/ 7
OASIS 1.0
OASIS.MASK 2.0
JEOL52 V1.0/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES RETICLE/ MODE5 / JOB
Hitachi HL700/ HL800/ HL900/ HL950/ HL7000/ JOB
Toshiba/NuFlare Tech. VSB11/ VSB12/ JOB
画像ファイル(*2) BMP/ JPEG/ TIFF/ PBM

(*2) 画像ファイルで出力する場合は、外部コマンド convert(ImageMagick)を用意する必要があります。

動作環境

OS バージョン アーキテクチャ
Linux RedHat Enterprise Linux WS/ES/AS 4、5、6 x86_64

*クラスタを構築する場合、異なるアーキテクチャのマシンを用いることも可能です。

ユーザーフレンドリーGUI

変換処理(ジョブ)の投入状況や実行状況などを表示するGUIを提供しています。処理の進捗状況が一目で確認できるため、処理完了までの予測がしやすく、生成されたデータを後工程で使用するスケジューリングも容易です。
また、変換に必要な指示書(ルールファイル)を対話的に作成するルールエディタを標準で搭載しているため、導入初期の不慣れな場合でも、各種機能を使いこなすことができます。

データの肥大化と微細化への対応

近年のファイルサイズの肥大化に対処するため、指定された出力フォーマットに応じてフォーマットごとにデータサイズを最適に分割、圧縮することができます。また、各種圧縮形式のデータを展開せずに処理することも可能です。
さらに、プロセスの微細化が進み、フラクチャリングシステムには高速処理だけでなく、より精度の高い出力が求められていますが、MaskStudio では精度の低下につながる微小図形の発生を独自の処理で抑止します。