MaskStudio

製品概要

レイアウト設計データを描画データに高速かつ高品質に変換する「フラクチャリングシステム」です。
並列分散処理機構により、大規模な設計データの変換を効率的に行うことができます。並列分散処理では200 並列以上での運用実績があります。また、微小図形の発生を抑制する優れた台形分割技術や豊富な図形演算機能により、各マスク描画装置に適したパターンデータを生成し、マスク描画時のランニングコストおよび TAT を削減することが可能です。

対応フォーマット

以下の入出力フォーマットに対応しています。

入力

フォーマット バージョン
GDSII Version 5/ 6/ 7
OASIS 1.0
OASIS.MASK 2.0
JEOL52 V1.0/ V1.1/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES(*1) RETICLE/ MODE5/JOB
Toshiba/NuFlare Tech. VSB11/ VSB12/ JOB
USER USER-Format

(*1) MEBES ファイルを MEBES 以外のフォーマットに変換することはできません。

出力

フォーマット バージョン
GDSII Version 6/ 7
OASIS 1.0
OASIS.MASK 2.0
JEOL52 V1.0/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES RETICLE/ MODE5 / JOB
Toshiba/NuFlare Tech. VSB11/ VSB12/ JOB
画像ファイル(*2) BMP/ JPEG/ TIFF/ PBM

(*2) 画像ファイルのフォーマットによっては、出力に外部コマンド convert(ImageMagick)を用意する必要があります。

動作環境

OS バージョン アーキテクチャ
Linux RedHat Enterprise Linux 7、8、9 x86_64