Photomask Japan 2013に出展
[2013.04.11]
本イベントは終了しました。
TOOL社は、Photomask Japan 2013 に「MaskStudio」、「LAVIS-plus」および「OASIS-Utility」を出展いたします。
| シンポジウム会期 | 2013年4月16日（火）～ 2013年4月18日（木） |
|---|---|
| 展示会会期 | 2013年4月17日（水）10:00 ～ 17:10 2013年4月18日（木）10:00 ～ 17:10 |
| 展示会場 | パシフィコ横浜 アネックスホール ブース番号 6 |
また、今回は「Special Poster Session: MDP Technologies in Asia」にてポスター展示を行いますので、こちらもぜひご覧ください。
| ポスター展示 | 2013年4月17日（水） 16:50 ～18:50 |
|---|---|
| 展示内容 | 1.Efficient verification flow on LAVIS-plus in MDP 2.Fast-grouping hotspot inductive patterns through a pattern matching method |
ご多忙のことと存じますが、皆様のご来場をお待ちいたしております。
