Photomask Japan 2016に出展
[2016.02.22]
本イベントは終了しました。
TOOL社は、Photomask Japan 2016 に 「MaskStudio」、 および 「OASIS-Utility」 を出展いたします。
シンポジウム会期 | 2016年4月6日(水)~ 2016年4月8日(金) |
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展示会会期 | 2016年4月7日(木)~ 2016年4月8日(金) 10:00 ~ 17:30 |
展示会場 | パシフィコ横浜 アネックスホール |
ご多忙のことと存じますが、皆様のご来場をお待ちいたしております。