Photomask Japan 2016に出展

[2016.02.22]

本イベントは終了しました。

TOOL社は、Photomask Japan 2016 に 「MaskStudio」、 および 「OASIS-Utility」 を出展いたします。

シンポジウム会期 2016年4月6日（水）～ 2016年4月8日（金）
展示会会期 2016年4月7日（木）～ 2016年4月8日（金）  10:00 ～ 17:30
展示会場 パシフィコ横浜 アネックスホール

ご多忙のことと存じますが、皆様のご来場をお待ちいたしております。