Photomask Japan 2015に出展

[2015.02.17]

本イベントは終了しました。

TOOL社は、Photomask Japan 2015 に 「MaskStudio」、「LAVIS-plus」 および 「OASIS-Utility」 を出展いたします。

シンポジウム会期 2015年4月20日（月）～ 2015年4月22日（水）
展示会会期 2015年4月21日（火） ～ 2015年4月22日（水）
展示会場 パシフィコ横浜 会議センター

ご多忙のことと存じますが、皆様のご来場をお待ちいたしております。