Photomask Japan 2014に出展
[2014.04.04]
本イベントは終了しました。
TOOL社は、Photomask Japan 2014 に 「MaskStudio」、「LAVIS-plus」 および 「OASIS-Utility」 を出展いたします。
| シンポジウム会期 | 2014年4月15日（火）～ 2014年4月16日（水） |
|---|---|
| 展示会会期 | 2014年4月15日（火） 11:00 ～ 18:30 2014年4月16日（水） 10:00 ～ 17:10 |
| 展示会場 | パシフィコ横浜 アネックスホール ブース番号 18 |
ご多忙のことと存じますが、皆様のご来場をお待ちいたしております。
