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2011年8月 - SPIE Photomask Technology 2011に出展

TOOL社は、米国モントレーで開催されます「SPIE Photomask Technology 2011」に出展いたします。

このたびの出展では、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに超高速かつ高品質に変換する大規模データ対応のフラクチャリングシステム、「MaskStudio」をご紹介いたします。効率のよい並列分散処理機構での運用や高精度かつ豊富な図形演算機能の利用、各マスク描画装置やマスク製造プロセスに適したパターンデータの生成により、歩留まりの向上とTATの大幅な短縮を実現します。

また、OASIS データの編集やセルの階層展開、指定検査条件に基づいたフォーマットや不正図形チェックなどが行える OASIS データハンドリングツール、「OASIS-Utility」も合わせてご紹介いたします。

高性能、かつ高品質な弊社の製品を、この機会にぜひご覧ください。

        • 会　期
    		2011年9月19（月） ～ 22日（木）
        • 展示会会期  
    		2010年9月20日（火）10:00 ～ 16:00; 18:00 ～ 19:00
    2010年9月21日（水）10:00 ～ 16:00    		 
        • 会　場
    		Monterey Conference Center    ブース番号：121 

    bacus2010