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2010年9月 - SPIE Photomask Technology 2010に出展

TOOL社は、米国モントレーで開催されます「SPIE Photomask Technology 2010」に出展いたします。

レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換する大規模データ対応のフラクチャリングシステム、「MaskStudio」と、中小規模データ対応の「MS-lite」をご紹介いたします。今回の見どころは、従来（昨年同時期）と比較して飛躍的に高速化した変換スピードと、大幅に削減された微小図形数、縮小された出力データサイズです。

また、OASIS データの編集やセルの階層展開、指定検査条件に基づいたフォーマットや不正図形チェックなどが行える OASIS データハンドリングツール、「OASIS-Utility」も合わせてご紹介いたします。大規模化するレイアウト設計データを圧縮された OASIS データに変換することで、データの移動や転送をスムーズに行うことが可能です。

高性能、かつ高品質な弊社の製品を、この機会にぜひご覧ください。

        • 会　期
    		2010年9月13（月） ～ 16日（木）
        • 展示会会期
    		2010年9月14日（火）10:00 ～ 16:00; 18:15 ～ 19:45
    2010年9月15日（水）10:00 ～ 16:00    		 
        • 会　場
    		Monterey Conference Center    ブース番号：500 

      

    bacus2010